Abstract / scope
This document specifies a method for the quantitative depth profiling of amorphous heavy metal oxide ultrathin films on Si substrates using medium energy ion scattering (MEIS).
Analyse chimique des surfaces — Profilage d'épaisseur — Profilage d'épaisseur non destructif de films minces d'oxydes de métaux lourds à l'échelle nanométrique sur des substrats de Si par diffusion d'ions de moyenne énergie
This document specifies a method for the quantitative depth profiling of amorphous heavy metal oxide ultrathin films on Si substrates using medium energy ion scattering (MEIS).