Abstract / scope
This document defines the chemical characteristics and related process specifications of atomic layer deposition precursors, including assay content, metal purity and anion content specification.
ISO 19383:2026Published
Atomic layer deposition — Chemical characteristics and related process specifications of atomic layer deposition precursors
Dépôt de couches atomiques — Caractéristiques chimiques et spécifications de processus associées des précurseurs pour le dépôt de couches atomiques