Abstract / scope
This document specifies the technical requirements for TiAlSiN thin films deposited by magnetron sputtering.
This document is also applicable to the deposition of TiN, TiAlN or TiSiN thin films.
ISO 25164:2026Published
Physical vapor deposition coatings — Magnetron sputtering deposition of TiAlSiN thin films — Specification
Revêtements obtenus par dépôt physique en phase vapeur — Dépôt de couches minces de TiAlSiN par pulvérisation cathodique magnétron — Spécification